半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
    电子工业用超纯水的工艺流程
    电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
    1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水沙碳过滤器精密过滤器原水箱阳床阴床混床纯水箱纯水泵后置精密过滤器用水点
    2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水沙碳过滤器精密过滤器反渗透设备原水箱纯水泵混床后置精密过滤器纯水箱用水点
    3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水沙碳过滤器保安过滤器反渗透设备原水箱纯水泵电去离子（EDI）纯水箱用水点
    4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下：
    原水原水加压泵砂碳过滤器保安过滤器反渗透中间水箱中间水泵混合床微孔过滤器用水点